【集成电路】EUV技术创新绘制半导体蓝图

 半导体细微化(Scaling)是目前半导体行业最热门的话题之一。随着DRAM等的芯片元器件在内的大部分电子元器件和存储单元趋于超小型化,对于高度集成技术的需求也逐渐提高,超小型芯片将可以储存并快速处理天文数字般的数据量。  如今,半导体细微化(Scaling)最为核心的...
09-23
2020

【集成电路】半导体光刻工艺及光刻机全解析

 光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的40~60%。  光刻机是生产线上最贵的机台,5~15百万美元/台。主要是贵...
04-09
2019

【集成电路】关键莱利公式扮演半导体制程微缩重要基础

半导体讲求制程微缩,生产的芯片除了有更小体积、更好效能之外,也有更优异的耗能表现。而在制程微缩的需求下,微影曝光设备能提供的效能就更加关键。如何让微影曝光设备能提供更加精密的工作效能,全球微影曝光设备大厂ASML就在官方Facebook公布关键公式:莱利公式(Raylei...
03-15
2019

【集成电路】三星采用两大策略,在图像传感器市场挑战龙头索尼

积极在非存储器半导体产品发展的韩国三星电子,目前正在图形传感器市场采用两项策略,包括采用更先进制程技术,以及更具竞争力的订价策略,挑战市场龙头SONY的地位。  根据韩国媒体《KoreaBusiness》报导指出,当前在图形传感器积极发展的韩国三星,正在向主要智能手机制造...
07-17
2018

【集成电路】纳米制程是什么?

三星以及台积电在先进半导体制程打得相当火热,彼此都想要在晶圆代工中抢得先机以争取订单,然而半导体制程中所描述的那些数字究竟有何意义?指的又是哪个部位?而在缩小制程后又将来带来什么好处与难题?以下我们将就纳米制程做简单的说明。  纳米到底有多细微?  在开始之前...
04-16
2018

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